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尼康通过光刻技术对ASML进行专利诉讼
日本的尼康在荷兰，德国和日本对ASML（一家半导体光刻系统制造商）发起了一系列法律诉讼。
尼康公司称，ASML及其光学元件供应商卡尔蔡司（Carl Zeiss）（公司）根据今天公布的一项公告，将尼康的专利技术用于ASML的光刻系统。
“半导体光刻系统进行一个过程，其中使用超高性能透镜减少由大玻璃板制成的光掩模上绘制的高度复杂的电路图案，并暴露在称为晶片的硅衬底上，”尼康在一个页面上解释了这项技术。
通过用液体介质代替最终透镜和晶片表面之间的通常气隙，将沉积光刻用于集成电路的制造。
根据尼康，制造用于智能手机，存储芯片和其他产品的半导体是至关重要的。
根据声明，ASML和尼康是世界上唯一制造和销售浸没式光刻系统的公司。
“尼康已经会见了ASML和Zeiss，旨在解决这些问题，但是由经验丰富的调解人指导所做的这些努力双方未能达成和解。”
日本公司表示，继续未经授权使用尼康的专利技术使尼康不得不在法庭上强制执行其合法权益。
尼康在荷兰海牙地区法院起诉了11起针对ASML的专利侵权案件，正在日本东京地区法院向该公司提起专利侵权案件，并对德国曼海姆的Zeiss采取行动。
尼康代表总裁Kazuo Ushida表示：“我们坚信，ASML未经授权使用尼康专利中先进的技术，包括浸没式光刻技术，使得ASML能够扩大光刻业务。”
尼康正在寻求禁令，禁止ASML和Zeiss销售和分销这些系统以及损害赔偿。
尼康曾在美国对ASML和Zeiss公司提起诉讼，2004年达成和解协议。
这些公司签订了交叉许可协议，其中一些较旧的专利已被永久许可，一些专利申请日期在2009年12月31日之前有限期许可。
ASML总裁兼首席执行官Peter Wennink说：“尼康的诉讼是毫无根据的，不必要的，并为半导体行业带来不确定性。”
他补充说，过去几年来，ASML已经多次尝试与尼康进行谈判延长其交叉许可协议。
他说：“我们感到失望的是，尼康并没有认真努力进行谈判，而是选择采取法律行动。”
“这种不必要的专利诉讼分散于真正重要的事情：推动技术向芯片制造者的利益迈进。我们应该在市场上竞争，而不是在法庭上。“
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